◆最新市場調査レポート：2027年02月19日予定
2027 先端／注目半導体関連市場の現状と将来展望
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AI、データセンター、xEVなど注目分野における先端半導体デバイスの市場動向と技術動向を徹底調査 |
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| −調査の背景− |
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- 2020年から2021年にかけてのコロナ禍に伴う深刻な供給不足と特需、その反動としての2022年から2023年の在庫調整と市場停滞を経て、近年の半導体市場は激動の数年を歩んできた。2024年以降は生成AIが成長の強力な原動力となり、2025年の2nmプロセス実用化といった技術的結実を経て、現在、市場は新たな構造的変革の局面を迎えている。
- 現在の半導体市場は、生成AI主導の「先端・高付加価値領域」における爆発的な投資加速と、マクロ経済停滞の影響を受けた「汎用・レガシー領域」における足踏み状態という、景況感の明確な二極化に直面している。サーバー向けCPUやAIアクセラレーター、HBMなど生成AIインフラを支える先端デバイスは、次世代製品の投入サイクル短縮に伴い極めてハイペースな投資が継続している。一方で、産業機器や民生品向けの汎用領域は在庫調整や需要回復の遅れから慎重な姿勢が続いており、市場全体の舵取りはかつてないほど複雑化している。
- プロセスノードの微細化は1nm実用化を見据えた最終局面を迎えている。これに伴い、先端露光プロセスに不可欠なHigh NA露光技術、次世代フォトレジスト／周辺材料への要求が高まっており、革新的な製造プロセスや次世代材料が1nmやそれ以降の実現を左右する鍵となっている。また、物理的限界突破を目指す「Beyond Moore」の潮流において、光電融合技術やBSPDN（裏面電源供給ネットワーク）、さらにはナノインプリントによる微細化手法といった次世代技術の開発動向も、市場のパラダイムシフトを見据える上で無視できない領域である。
- 企業動向に目を向けると、活況なAI投資を背景にTSMCやSK hynix、Micron Technology、Samsung Electronicsが高い収益性を維持する一方、IntelはファウンドリーとIDMの両面で事業構造の再構築を急いでいる。国内ではRapidusが量産体制構築に向けた投資を加速させ、キオクシアもメモリー市況の波を捉えた戦略展開を見せている。本市場調査資料では、これら主要プレーヤーの投資計画を調査するとともに、先端半導体デバイスから周辺部材までを俯瞰し、激動する半導体エコシステムの将来像を提示するものである。
- 本市場調査資料では、生成AI、フィジカルAI、xEVを実現する先端／注目半導体デバイス、関連部材の現状と将来分析を行うことで、半導体関連市場を俯瞰できるデータベースを提供するものである。関連各社が事業戦略を立案／展開されるにあたり、本市場調査資料を役立てていただくことを切に望むものである。
- ■調査のポイント
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- 主要半導体メーカーの投資動向把握
- AI向け半導体（サーバー向けCPU、AIアクセラレーター、DRAM、HBM、NAND）を中心とした先端注目半導体の市場予測
- High-NA次世代露光やフォトレジストおよびTARC、BARC、Si-SOH、Si-SOCなど露光周辺材料の最新動向
- 光電融合、BSPDN、ウェハ三次元積層など次世代技術の動向
- デバイス（ファブレス／IDM／ファウンドリー）、材料、装置といった半導体産業エコシステム全体における企業動向把握
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| −調査対象− |
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- I. 主要半導体メーカーの投資動向
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1. Intel
2. Micron Technology
3. Samsung Electronics
4. SK hynix
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5. TSMC
6. キオクシア
7. Rapidus
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- II. 注目技術・製造プロセス
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1. High NA露光技術と次世代フォトレジスト周辺材料の採用動向
2. 光電融合技術の動向とCPO・SiPh市場
3. シリコン量子ビット技術
4. 三次元ウェハ接合技術とBSPDN技術
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- III. 半導体デバイス
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1. PC向けCPU
2. サーバー向けCPU
3. サーバー向けアクセラレーター
4. ネットワークスイッチチップ
5. モバイル機器向けSoC
6. SSDコントローラー
7. 光通信用DSP
8. NIC
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9. FPGA
10. DRAM
11. HBM
12. NAND
13. IGBT
14. パワーMOSFET
15. SiCパワーデバイス
16. イメージセンサー
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- IV. 半導体関連材料
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1. シリコンウェハ
2. フォトマスクブランクス
3. フォトマスク
4. ペリクル
5. ターゲット材
6. めっき薬液
7. フォトレジスト（i線・g線）
8. フォトレジスト（KrF・ArF）
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9. フォトレジスト（EUV）
10. 次世代フォトレジスト周辺材料
（TARC、BARC、Si-SOH、Si-SOC）
11. CMPスラリー
12. バックグラインドテープ
13. ダイシングテープ
14. ダイアタッチフィルム
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- V. 半導体関連装置
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1. ウェハ検査装置
2. 露光装置
3. スパッタリング装置
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4. CVD装置
5. ドライエッチング装置
6. メモリーテスター
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- VI. その他
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1. FOUP
2. FOSB
3. プローブカード
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4. ICソケット
5. 静電チャック
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- ※上記品目より45品目・社程度を対象とします。
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| −調査項目− |
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- ■総括
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1. 総括
2. カテゴリー別市場規模推移・予測（2025年実績〜2032年予測）
3. 製造工程と使用材料・装置（前工程・後工程）
4. 半導体業界を取り巻く環境（貿易摩擦、マクロ経済など）
5. 前工程投資動向、生産能力推移・予測
6. 主要地域の半導体政策
7. プロセスノード別シリコンウェハ投入枚数推移・予測
8. 先端半導体の微細化ロードマップと関連技術
9. 主要アプリケーション別半導体市場動向
10. 半導体産業エコシステムにおけるキープレーヤー
- ■主要半導体メーカーの投資動向
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1. 前工程生産拠点と生産能力
2. 後工程生産拠点
3. 設備投資動向
- ■注目技術・製造プロセス
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1. 技術・製造プロセス概要
2. 採用ロードマップ
3. 必要となる材料、装置
4. 主要参入メーカーリスト（半導体デバイス、材料、装置）
- ■半導体デバイス
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- 1. 製品概要／定義
- 2. 量産デザインルール
- 3. 先端製品ロードマップ
- 4. ワールドワイド市場動向
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1) 市場概況
2) 市場規模推移予測（2025年実績〜2032年予測）
3) ウェハ投入数量推移・予測（12in換算）
- 5. 用途別動向
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- 6. タイプ別動向
- 7. 価格動向（2026年Q4時点）
- 8. メーカー動向
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1) メーカーシェア
2) 主要参入メーカー動向
- 9. サプライチェーン（2026年Q4時点）
- 10. 出荷にかかわる規制動向
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- ■半導体関連材料／半導体関連装置／その他
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- 1. 製品概要／定義
- 2. 半導体デバイス製造における採用プロセス
- 3. 製品ロードマップ
- 4. ワールドワイド市場動向
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1) 市場概況
2) 市場規模推移予測（2025年実績〜2032年予測）
- 5. 用途動向
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- 6. タイプ別動向
- 7. 価格動向（2026年Q4時点）
- 8. メーカー動向
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1) メーカーシェア
2) 主要参入メーカー動向
- 9. サプライチェーン（2026年Q4時点）
- 10. 出荷にかかわる規制動向
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