◆マルチクライアント調査レポート:2009年11月30日発刊

先端半導体レジストの現状と将来展望

レジストから構成材料のポリマーまでを徹底調査
−調査の背景−
  • 2008年に起こった世界不況は半導体業界に暗い影を落とし、2009年に入っても、市場がなかなか回復しなかった。半導体デバイスメーカーの中には最悪の「倒産」に見舞われた企業も多かった。これらの倒産は、倒産した企業の問題にとどまらず材料メーカー、さらには化学品メーカーなどへ波及したため半導体産業全体の業績を急速に冷やしていった。2009年は良くも悪くも企業間のつながりを認識させられた年となった。
  • 半導体技術で最も技術的障壁が高いと言われているリソグラフィ工程も不況の波を直接かぶる形となった。これまでは、最先端のプロセスの中核技術を担うリソグラフィ工程は安定した需要を創出していたため、投資が滞ることは無かった。しかし、この不況で投資を抑制する動きが盛んになったことは技術者や最先端のプロセスに携わる者にとっては青天の霹靂であったに違いない。レジストメーカーもその例外ではなく、2008年半ばごろまで急成長をしてきたため、あっという間に溜まった在庫は営業担当者、在庫管理担当者を震撼させた出来事であった。さらにはポリマーメーカー、モノマーメーカーと在庫は積みあがっていくばかりで、全く減る気配は無かったという。このためマイナスの波及効果が起こってしまった。
  • レジストメーカーのカスタマイズが進み、各社標準品というものが無い業界のため、技術的な方向性も不透明なままである。従って、在庫があるから他のメーカーに売ることは出来ない。これは材料メーカーにとっては、正確な需要予測を行う必要性が高まっているということである。慎重且つ大胆にレジスト事業を行っていくためには、技術、需要予測の両面を充実させる必要がある。このような要望があり、本調査を企画した次第である。今後も混迷が予想される半導体業界で日本のエレクトロニクス事業の発展とそれを支える関係各位の事業戦略の企画・展開のためのご参考になれば幸いである。
−調査対象−
1. 調査対象品目
調査対象:半導体用前工程フォトレジスト
非化学増幅タイプ
g線レジスト、i線レジスト
化学増幅タイプ
KrFレジスト、ArFレジスト、EUVレジスト
調査対象製品定義
本調査で半導体の前工程用のフォトレジストに特化するものとする。対象はg線レジスト、i線レジスト、KrFレジスト、ArFレジスト、EUVレジストを対象として取り上げた。なお、後工程のレジストは使用される用途、目的、材料、求められる性能などが全く異なることから対象から除外している。
2. 調査対象範囲
レジストを中心にモノマー、ポリマーそしてデバイス、アプリケーションまで
文教市場マーケティング便覧 2010:調査イメージ
3. 調査対象企業
1) g/i線レジスト
JSR、東京応化工業、住友化学、富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ、Rohm&Hass
2) DUVレジスト
SR、信越化学工業、東京応化工業、住友化学、富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ、Dow Chemical(Rohm&Hass)、東進セミケム(DONGJIN SEMICHEM)、第一毛織(Cheil Industries Inc)、錦湖石油化学(Kumho Petrochemical)
3) DUVレジスト材料
ポリマーメーカー
デュポン、丸善石油化学、日本曹達、ダイセル化学、三菱レイヨン、東洋合成工業
モノマーメーカー
出光興産、大阪有機化学、三菱ガス化学、クラレ、ダイトーケミックス、東邦化学、東ソー
−目次−
I. 半導体レジスト市場総括編(1)
1. 半導体レジスト産業の概況(1)
2. 半導体用レジスト市場の概況(2)
3. 半導体用レジスト材料市場の概況(8)
4. 参入メーカー一覧(15)
5. 参入メーカーの製品一覧(18)
6. 各レジストメーカーの動向(19)
7. 各レジスト材料メーカーの動向(22)
8. 主要ユーザーの動向及び、使用レジストメーカーの動向(サプライチェーン)(24)
9. 納入、アライアンスの状況(28)
10. 装置メーカーの動向(31)
11. 価格動向(33)
12. その他レジストの動向(36)
13. 技術動向(省レジ、DP、液浸露光など)(37)
II. 半導体レジスト市場需要予測編(41)
1. レジスト市場規模推移(数量&金額 CY2008〜CY2013)(41)
2. レジスト市場規模推移(数量&金額 CY2009Q1〜Q4&CY2010Q1〜Q4)(45)
3. 地域別市場規模(数量 CY2009〜CY2013)(47)
4. 地域別市場規模(数量 CY2009Q1〜Q4&CY2010Q1〜Q4)(49)
5. レジスト関連材料市場規模推移(数量&金額 CY2008〜CY2013)(51)
6. 半導体レジストメーカーのシェア(数量 CY2008&CY2009)(51)
7. レジスト材料メーカーのシェア(数量 CY2009)(53)
III. アプリケーション、デバイス市場編(60)
1. アプリケーション、デバイス市場総括(60)
2. 半導体市場(62)
3. シリコンウェーハ投入実績(68)
4. 各デバイスのデザインルールの動向(74)
5. 微細化(100nm以細)対応の主要工場(78)
6. 主な半導体メーカーの動向(80)
7. 半導体材料の動向(レジスト以外)(83)
8. 半導体主要アプリケーション動向(86)
−お問い合わせ・お申し込みについて−
調査資料名
先端半導体レジストの現状と将来展望

頒価
380,000円+税

発刊日
2009年11月30日

報告書体裁
A4版 ワープロタイプアップ

ページ数
90ページ

担当部署
株式会社富士キメラ総研 第一研究開発部門
TEL. 03-3664-5839 FAX. 03-3661-1414

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