◆マルチクライアント調査レポート:2012年01月24日発刊

2012年版 先端半導体レジストの現状と将来展望

構成材料とプロセスフローを徹底調査
−調査の背景−
  • 「2012年版 先端半導体レジストの現状と将来展望」は半導体技術レポートの第一弾である「先端半導体レジストの現状と将来展望」(2009年11月発刊)で好評を得たため発刊に至ったものである。皮肉なことに第一弾を発刊した時の状況と類似している。前回はリーマンショック後で市場には悲観論が蔓延していた。今回も東日本大震災、欧州の債務問題に端を発する不況、そして止まらない円高がレジストメーカー及びレジストに携わる関連メーカーに逆風として吹いている。そこで、今回は半導体製造の際に最重要技術の根幹を支えるレジストを通して、材料メーカーがどうあるべきかを示す手掛かりを提供することを目的としている。
  • 今回は半導体に限定したレジストメーカー、ポリマーメーカー、モノマーメーカーなどを対象とし、最先端を支える技術者の方々と意見交換を行った。その中で、「日本の技術者はガラパゴスであるべき」との意見を聞いた際、日本の技術はまだ世界で通用し、そしてリードしていく核心を得るものであった。レジストは日本が世界をリードしてきた分野であり、何より正確性、クリーン度、そして次世代に向けた独創性などが求められるものである。この技術が物量の支配する海外に迎合することなく、自分達の立ち位置をしっかり見据え、持っている技術力を信じる姿勢に頼もしさを感じたのは言うまでもない。
  • 技術は進展しているが、営業面で海外に押されるようになってきた材料は少なくはない。調査対象であるレジストも序々に営業力に勝る海外メーカーの進出が目立つようになってきた。特に韓国メーカーは国家を味方に付け産業の発展に取り組んでいる。今回は韓国に学ぶ意味も込めてデバイスメーカー、レジストメーカー、ポリマーメーカー、モノマーメーカーに韓国現地で取材を敢行し、その結果をまとめたものである。調査結果は非常に面白いものがあり、結局は日本のレジストメーカー及び材料メーカーの技術力を再認識させられるものであった。しかし、裏を返せば、「日本の絶対的優位性」はどこにも無く、日本の材料、技術を素直に受け入れる韓国メーカーに学ぶべきことが多いように思える。
  • タイトルにレジストを主題としているが、半導体のボトルネックとなる露光工程を俯瞰するべく報告書にまとまたものである。従って、半導体のビジネスがどう展開していくかを図るには良いものに出来上がったと自負している。最後に、東日本大地震で被災された方々の一日も早い復興を祈り、その地震の深刻な被害を受けつつも本調査レポートの作成に協力していただいた方々に感謝の意を表します。
  • 本調査レポートが関係各社の今後の事業戦略立案にあたり、一助となれば幸いである。
−調査目的−
  • 本調査レポートは、リソグラフィ工程の技術と問題点を把握し、フォトレジストビジネスの市場規模推移などを判断する材料を提供するものである。そして、フォトレジストの材料からフォトレジストまでのプロセスプローと参入するメーカーを把握することで将来の市場動向を予測するものである。
−調査対象品目−
半導体用前工程フォトレジスト
対象品目対象メーカー事例
化学増幅(DUV)タイプ:KrF/ArF/EUVレジストJSR、信越化学工業、東京応化工業、住友化学、富士フイルム、Dow Chemical(米) 、Kumho Petrochemical(韓)、DONGJIN SEMICHEM(韓)など8社
非化学増幅(UV)タイプ:g線/i線レジスト
反射防止膜(BARC)日産化学工業、Dow Chemical(米)、AZ Electronic Materials(米) など
DUVレジストポリマー丸善石油化学、日本曹達、Dupont(米)、三菱レイヨン、ダイセル、Seoul Fine Tech Corporation(韓)など4社
DUVレジストモノマー出光興産、大阪有機化学工業、三菱ガス化学、クラレ、ENF Technology(韓)など3社
デバイスメーカー(ユーザー)東芝、ルネサスエレクトロニクス、Samung Electronics(韓)3社
調査対象製品定義
本調査で半導体の前工程用のフォトレジストに特化するものとする。対象はg線レジスト、i線レジスト、KrFレジスト、ArFレジスト、EUVレジストを対象として取り上げた。なお、後工程のレジストは使用される用途、目的、材料、求められる性能などが全く異なることから対象から除外している。
−目次−
I. 総括編(1)
1. 調査対象製品概要(先端半導体フォトレジストとは)(2)
2. フォトレジストの種類(3)
3. 半導体市場とレジスト市場(4)
4. レジスト関連市場への提言(6)
5. 参入メーカー一覧(9)
6. 露光方式のロードマップ(12)
7. 注目される露光技術(14)
8. レジスト及び関連ビジネスの日本、海外の動向(韓国を中心に)(19)
9. 装置メーカーの動向(20)
10. レジスト材料(モノマー/ポリマーの種類)(21)
11. 納入マップ(28)
12. 価格動向(32)
13. 技術動向(省レジスト)(34)
II. 集計編(35)
1. 半導体レジスト市場(36)
2. 半導体レジスト材料(ポリマー)(38)
3. リソグラフィ工程関連材料(反射防止膜:BARC)(40)
III. 半導体市場編(42)
1. 半導体市場の現状と今後(43)
2. Siウェーハの出荷枚数推移(47)
3. 半導体生産ライン一覧(48)
IV. レジスト関連市場編(54)
1. レジスト市場推移(数量&金額 CY2010〜CY2016)(55)
2. レジストシェア(数量 CY2011)(61)
3. ポリマー市場推移(数量&金額CY2010〜CY2016)(64)
4. ポリマーシェア(数量 CY2011)(66)
5. モノマーシェア(数量 CY2011)(68)
6. リソグラフィ工程関連材料の市場推移(反射防止膜:BARC)(72)
7. BARCシェア(数量 CY2011)(76)
V. メーカー事例編(78)
1. ユーザー事例(79)
1-1. 株式会社 東芝(79)
1-2. ルネサスエレクトロニクス 株式会社(81)
1-3. Samung Electronics Co., Ltd.(83)
2. レジストメーカー事例(85)
2-1. JSR 株式会社(85)
2-2. 信越化学工業 株式会社(87)
2-3. 東京応化工業 株式会社(89)
2-4. 住友化学 株式会社(91)
2-5. 富士フイルム 株式会社(93)
2-6. Dow Chemical Co.(95)
2-7. Kumho Petrochemical Co., Ltd(97)
2-8. DONGJIN SEMICHEM Co., Ltd.(99)
3. ポリマーメーカー事例(101)
3-1. 丸善石油化学 株式会社(101)
3-2. 日本曹達 株式会社(103)
3-3. 三菱レイヨン 株式会社(105)
3-4. Seoul Fine Tech Corporation (107)
4. モノマーメーカー事例(109)
4-1. 出光興産 株式会社(109)
4-2. 大阪有機化学工業 株式会社(111)
4-3. ENF Technology Co.,Ltd(113)
−お問い合わせ・お申し込みについて−
調査資料名
2012年版 先端半導体レジストの現状と将来展望

頒価
450,000円+税

発刊日
2012年01月24日

報告書体裁
A4版 ワープロタイプアップ

ページ数
114ページ

担当部署
株式会社富士キメラ総研 第一研究開発部門
TEL. 03-3664-5839 FAX. 03-3661-1414

お申し込み方法
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受信後、担当者より折り返しご連絡いたします。
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